粘接资讯消息，5月20日上海新阳（300236）举办2021年度网上业绩说明会，公布了多项关于其光刻胶业务进展的信息。

在业绩说明会上，其表示，公司2021年完成了几款KrF光刻胶产品的研发、验证并实现销售，在手订单中含有国内主流头部芯片制造公司等大小客户，覆盖铝线制程和铜线制程，用于逻辑、模拟等芯片的生产制造。由于客户对于光刻胶的使用都会比较谨慎，目前还都是小批量使用，所以今年的销售额可能不会很大，但明年用量可能会增加较多，后续增长空间较大。

此外，上海新阳还透露：公司现在已开始进行EUV光刻胶的前期摸索性基础研发，主要进行EUV光刻胶的基础理论、形成机理、性能观察、配方筛选、制备方法等基础性研发工作。其还表示，公司对于光刻胶研发投入决心非常大，已进行全面布局，公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已经进入客户端进行测试。

众所周知，光刻胶是芯片关键材料中的重点所在，光刻胶是光刻成像的承载介质，其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。

光刻胶一般由聚合物骨架、光致酸产生剂或光敏化合物、溶剂，以及显影保护基团、刻蚀保护基团等其他辅助成分组成。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。

一直以来，光刻胶都是芯片关键材料中的重点所在，由于国内光刻胶领域起步较晚，技术严重落后等原因，导致我国半导体芯片领域的光刻胶需求主要由外资企业来满足，日美厂商占据了约87％的份额，国内光刻胶产品进口比例高达九成。

如今上海新阳的KrF光刻胶产品成功打入国内主流芯片公司，意味着国内光刻胶产业再获得重大突破，实现国产替代指日可待。

上海新阳半导体材料股份有限公司创立于1999年7月，2011年6月在深圳证券交易所创业板上市。二十年来，上海新阳已申请授权国家专利210项，其中国内发明专利102项，国际发明专利8项，开发研制出140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域，是中国半导体功能性化学材料和应用技术与服务的知名品牌。公司已立项研发集成电路制造用高分辨率193nm ArF光刻胶及配套材料与应用技术，拥有完整自主可控知识产权的光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术，公司在国内半导体功能性化学材料领域的地位将更加稳固。

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